中文：二次掩模曝光；英文：double mask exposure

关键词

解释

简称“二次曝光（double exposure）”。将密集掩模按照一定规则分割为两个稀疏掩模，并采用这两个掩模，先后对同一光刻胶层进行两次曝光，获得比一次曝光一块掩模图形更密集的图形的技术。是一种光刻分辨率增强技术。

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