中文:反应离子束刻蚀;英文:reactive ion etching

解释
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射频电源使反应室的混合气体产生等离子体,离子被加速并与待刻蚀的表面材料相互作用,发生物理和化学反应,高能离子轰击待刻蚀材料、使原子溢出、实现刻蚀的工艺过程。
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