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传统磁光薄膜的特性为了在薄膜上获得分离良好的磁性区域，在x射线光刻过程中使用掩膜，如图1所示，然后通过离子束蚀刻去除薄膜的未保护部分。由于需要确保垂直磁化方向，因此需要进行MOKE测量以检查薄膜的质量。这种磁性表征是可能的，因为这些薄膜的磁化方向对光偏振方向有很强的依赖性，并且薄膜与背景反射率的比例很高。其他互补的表征技术，如反射高能电子衍射，通过指示外延生长，提供了对薄膜光学质量的进一步了解。x射线衍射研究表明材料是否具有晶体织构，因为通常需要具有高度织构且易于磁化轴垂直于薄膜的材料(图2)。图1图2在这一点上，应该强调的是，传统磁光薄膜的磁性是连续的，而其他磁性薄膜，如传统磁性记录磁带中使 ...
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