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中文：干涉光刻；英文：interference lithography

关键词

解释

利用双光束、多光束的干涉图样，一次曝光或者多次曝光实现的一种无掩模光刻工艺。常用于周期图形的制备，如周期性光栅、孔阵、点阵、柱阵等图形。

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