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DMD无掩模光刻机
DLP/DMD光刻照明光源
DLP光学引擎
ce）的全新无掩模光刻系统，因此SP-UV可以兼容所有标准的微电子光刻胶，包括微流体应用中不可或缺的i-line光阻剂SU-8。这一特点为半导体加工领域的开发人员，在光刻胶材料的选择上提供了更加广阔的空间。DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时，提供了四种不同的直写分辨率。搭配Microlight3D的“快速切换”物镜系统，仅需2秒就能完成分辨率切换。Microlight3D首席执行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技术可以与更广泛光刻胶材料相兼容。在为无掩模光刻的应用开拓了新的领域的同时，满 ...
图示1、何为无掩模光刻？无掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技术。在传统光刻过程中，需要采用光学照射掩模版的方式将图案转移到掩模版上；而在无掩模光刻中，对目标图案的转印不需要掩模版，而是通过电子束或光学的方式直接在基片上制作出所需要的图案，这种方式避免了传统方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺点。2、何为DMD无掩模光刻？DMD无掩模光刻是光学无掩模光刻技术的一种，该技术使用数字DMD代替传统的掩模，借助于DMD对常规掩膜予以取代而展开光刻成像，借助DMD对光源展开反射式调制，把涉及的虚拟数字掩膜移至硅晶圆基片，进而进行曝光。DMD无掩模光刻系统本质上是一种高精度加工平台，如下图所示，主要 ...
D投影技术的无掩模光刻设备，可兼容多种电阻和基片。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状，而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术，投影出具有微米分辨率的图像。DMD无掩模光刻机最后便会在一整片晶圆上完成很多 IC 芯片，接下来只要将完成的方形 IC 芯片剪下，便可送到封装厂做封装。最后，对产生的芯片质量检测可利用该款产品进行操作。脉宽可调纳秒激光器（芯片缺陷检测用）您可以通过我们的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询4006-888-532。 ...
使用DMD的无掩模光刻的论文。利用DMD的生产系统已经由多家原始设备制造商推出。 通常，这些工具选择使用多个中到高分辨率DMD以实现高数据吞吐量，并在365-410nm范围内工作。典型工作条件是在DMD上的3-5W / cm2 照明，温度保持在30°C以下。 基于这些条件，制造商已经能够将DMD系统稳定运行。设备在 UV-A 范围内的 3.4W/cm2 、25°C条件下始终表现出超过 3000 小时的运行时间。生产合格的UV DMD中使用的标准UV窗口具有320-400nm的可用透射率区间。为了在低于此值的波长下测试和操作设备，需要一个低于320nm的高透射率的特殊窗口。DMD技术概述DMD是 ...
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