空气、薄膜和衬底的折射率；k2和k3分别为薄膜和衬底的消光系数。通过对Ψ和Δ的拟合，可以得出被测物体的参量。椭偏技术按采样原理可以分为消光式和光度式 ，也称为零椭偏法与非零椭偏法。消光式椭偏测量方法在每一个波长通过旋转起偏器和补偿器后寻找到合适的角度，使经样品反射后的偏振光为线性偏振光，然后调整检偏器角度产生消光效果后，记录此时检偏器和起偏器相对于入射平面的角度，计算出样品对应的参数。光度式椭偏测量方法则是对探测器接收到的光强进行傅里叶分析，推导出所测样品的特性，并不需要测量角度，尽可能排除了人为误差，测量速度快，但其非线性效应大。如果您对椭偏仪有兴趣，请访问上海昊量光电的官方网页：https ...
程度上取决于衬底的选择;然而，它们的磁光特性主要是由具有垂直定向磁化的能力决定的。另一方面，磁性材料的矫顽力与衬底的选择以及薄膜的微观结构细节有很强的依赖性。多年来，许多实验室对合金的结构、磁性和磁光特性进行了系统的研究，以获得较佳化合物。此外，随着制造技术的改进，例如溅射沉积，分散在聚合物基质中的特殊性质颗粒被获得，为新型磁光材料铺平了道路，使其与传统的薄膜方法保持距离。对传统磁光合金的改进，以及目前新型和增强型磁光材料的一些研究成果通常以纳米级粒子的形式出现。如果您磁学测量对有兴趣，请访问上海昊量光电的官方网页：https://www.auniontech.com/three-level- ...
，沉积在Si衬底上，衬底为100 nm SiO2。它具有9%的铜含量和L10结构，具有面外磁化。铁磁性Tb26Co74样品具有20nm的厚度和面外磁化。将其沉积在透明玻璃衬底上，衬底上有5nm的Ta缓冲层。为避免氧化，采用了由2nm Cu和4nm Pt组成的盖层。在硅衬底上测量了15 nm厚的Ni样品，并对其进行了纵向几何测量。如果您磁学测量对有兴趣，请访问上海昊量光电的官方网页：https://www.auniontech.com/three-level-150.html更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器 ...
厚标准样片的衬底材料为硅，薄膜材料为热氧化生长的二氧化硅。由光谱型椭偏仪测量原理可知：椭偏仪在测量薄膜厚度时，得到的直接测量量为椭偏角（和），薄膜厚度量值是通过建立相应测量模型进行椭偏角拟合得到的。因此，椭偏角的测量准确度体现了光谱型椭偏仪的硬件性能，薄膜厚度的测量准确度体现了光谱型椭偏仪硬件和测量模型的综合性能。测量模型是椭偏仪的核心技术，出于技术保护，各椭偏仪生产厂家都有自己的测量模型，这就导致使用不同厂家生产的仪器测量同一薄膜厚度时，结果会出现较大的偏差，薄膜厚度的测量结果受测量模型的影响很大。为了消除测量模型对光谱型椭偏仪校准结果的影响，本文提出了一种基于椭偏角的光谱型椭偏仪校准方法。 ...
斜率与薄膜和衬底的热导率和扩散率有关。图2：SDTR的相位(a)和振幅扫描曲线(b)示意图(图中数据为Ti/Si样品)图2(a)和2(b)所示分别为整个扫描范围内的相位信号和幅值信号，理论上两种信号都是以零点(泵浦光斑和探测光斑重合位置)左右对称，虽然理论面内热导率kxx需要从对整个坐标轴范围的斜率Δφ进行拟合而得到，但实际的拟合结果主要决定于xc＞2ω(ω为光斑直径)处的斜率，同样的，在振幅信号中(图2(b)所示)的曲线中，ω的敏感度主要为振幅曲线的半高宽。因此通过SDTR的同次测试结果中可同时确定样品的扫描方向的面内热导率kxx和有效光斑直径ω。SDTR对测试样品有一定的要求：首先要确定样 ...
用光度式，在衬底裸露部分进行消光调节，然后在保持补偿器方位角、偏振器方位角不变的情况下使用光度式进行操作，根据反射光的强度实现材料厚度的可视化。该技术对薄层沉积过程中厚度分布的在线动态可视化具有很大的应用前景。该椭偏成像技术使用的是单一波长入射样品，结构如下图所示 。具有扩展光束、固定偏振组件和 CCD 相机的成像椭偏仪结构示意图该成像椭偏系统被应用于研究多种蛋白分子在固相表面的吸附机理和多种抗原-抗体之间的相互作用等，并且成功地检测了人体内分泌激素等。如果您对椭偏仪相关产品有兴趣，请访问上海昊量光电的官方网页：https://www.auniontech.com/three-level-56 ...
系统获得的硅衬底上的二氧化硅纳米薄膜的厚度分布。硅衬底上的二氧化硅薄膜厚度分布厚度刨面在1.10 mm×2.21 mm的面积上几乎是平坦的，在水平和垂直方向上的空间分辨率分别为 1.58μm 和4 62μm。该系统与光谱椭偏之间的平均厚度差小于3nm，尽管包含大量的数据点，测量结果与标准值的偏差小于2.5nm。通过与磁光调制、时间相移和双反射等技术的结合，光谱椭偏技术提高了测量速度和准确性。通过与Muller矩阵的结合，光谱椭偏技术不再受光学分辨率极限的限制，提高了测量的准确性，可以获得更丰富的信息。2019年华中科技大学发明了基于液晶调相的垂直物镜式Muller矩阵成像椭偏仪，该仪器所用系统 ...
以用来从任何衬底上确定石墨烯薄膜的形状和层数，从中提取其光学性质从而分析不同衬底对石墨烯性质的影响。下图为成像椭偏仪获得的石墨烯薄片灰度图和光学显微镜获得的石墨烯薄片的对比。成像椭偏仪获得的石墨烯薄片灰度图和光学显微镜获得的石墨烯薄片的对比。（a）不同层数的石墨烯片的光学显微照 片，数字代表石墨烯层数；（b）石墨烯片在二氧化硅/硅上的成像椭偏灰度图；（c）（d）以更高的分辨率显示图（b）中方框 区域的椭偏Ψ和Δ图对比上图（a）和（b）-（d）可以看出，成像椭偏适用于区分单层和双层石墨烯。在此之后，成像椭偏技术实现从单波长测量到光谱测量的突破，为测定由飞秒激光诱导的离子迁移刻写的通信波导的折射率 ...
(0001)衬底上的12 nm Pt缓冲层上，采用电子光刻技术制备了厚度为15 nm的CoPt3点。它们具有较大的垂直磁晶各向异性和铁磁行为，其特征是定义良好的平方磁滞回线，矫顽力场为±3.7 kOe。圆点的直径可在0.2 ~ 1 μm范围内变化。下面只给出1 μm点的结果。图1实验配置能成像纳米结构的形貌以及磁化的动力学。图1为泵脉冲激励后直径为1µm的CoPt3点在不同时间延迟下的微分磁化图像。注意，在当前的测量中，激发不是固定在点的中心，而是在成像过程中与探针光束一起移位。图a、b和c的序列表明，可以监测磁点磁化的空间动态。了解更多详情，请访问上海昊量光电的官方网页：https://ww ...
消除来自样品衬底的背景散射光。在针孔之后，用一个偏振器来分析探测光束的克尔旋转，该偏振器相对于入射光束的交叉偏振方向的角度为几度(交叉偏振器技术)然后用光电倍增管和锁定检测方案进行检测。垂直于样品平面施加zui大振幅为±4kOe的可变静态磁场H。样品可以用XY压电扫描台在±40 um的距离上进行扫描，精度为2 nm。CoPt3光盘是由15 nm的CoxPt1−x (x=0.25)合金薄膜通过分子束外延生长在沉积在500 um取向蓝宝石(0001)衬底上的12 nm Pt缓冲层上，通过电子光刻制成的圆盘的直径为0.2 ~ 1m，圆盘之间的距离为0.5 ~ 2um。图2图2(a)表示时间的变化泵浦 ...
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