,是利用光学色散原理及现代先进电子技术设计的光电仪器.拉曼光谱仪是根据拉曼散射效应设计的仪器.当一束频率为v0的单色光照射到样品上后,分子可以使入射光发生散射。大部分光只是改变方向不改变频率发生散射,这种散射称为瑞利散射;还有一部分光不仅改变了传播方向,而且散射光的频率也改变了,不同于激发光的频率,称为拉曼散射。拉曼散射中频率减少的称为斯托克斯散射,频率增加的散射称为反斯托克斯散射,斯托克斯散射通常要比反斯托克斯散射强得多,所以拉曼光谱仪通常测定的是斯托克斯散射,也统称为拉曼散射。拉曼光谱仪具体原理结合光谱仪各部件加以说明。二、光谱仪各部件1、狭缝狭缝是一条宽度可调,狭窄细长的缝孔.狭缝宽度影 ...
长度较短,对色散和损耗特性要求不高,所以采用通用的单模光纤或多模光纤就能满足要求。有时,为了提高传感器的灵敏度,而增大光纤传输的光功率,可采用大芯径或大数值孔径光纤,甚至采用光纤传光束或者塑料光纤,以提高与光源的耦合效率。在相位调制型光纤传感器中,为了获得测试光信号与参考光信号间高的相干度,而采用保偏光纤,使测试光纤与参考光纤输出光信号的振动方向一致。而在偏振调制型光纤传感器中,要求光信号的偏振态能敏感外界被测量的变化,则必须使光纤的线双折射尽量低,如低双折射液芯光纤。在分布式光纤传感器中,为了测量不同点的参量,可采用掺杂(如某些稀土元素或过渡金属离子)光纤或光栅光纤等。图2.光纤传感器的内信 ...
测量光学常数色散随厚度的变化就显得尤为重要。图7 采用Alq3和NPD的OLED结构图8 玻璃上Alq3层(17nm)的测量。厚度和光常数都是确定的图9 Alq3的光学常数(n&k)由测量得到图10 玻璃上NPD材料的测量:厚度和光学常数的测定图11 NPD材料的光学常数由测量确定如果您对膜厚测量仪感兴趣,请访问上海昊量光电官方网站:https://www.auniontech.com/three-level-56.html更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉 ...
为速度匹配、色散工程和准相位匹配工程提供了前所未有的可能性。开创性的概念验证使用薄膜铌酸锂(TFLN)平台,例如高速电光调制器,电光频率梳状发生器,以及zui近的太赫兹波形合成。本文报道了利用铌酸锂薄膜在绝缘体上制作的光子集成电路对自由传播的太赫兹辐射脉冲进行时间分辨电光探测。电光太赫兹波探测器的设计方法创新地利用和集成了薄膜LNOI、光子集成电路微加工和商用通信波长光纤等材料科学的进展。作为概念验证,一个原始的薄膜LNOI电光探测器芯片已经被设计、制造和表征。利用该原型装置演示了对频率高达800 GHz的自由传播亚皮秒太赫兹辐射脉冲电场的有效相敏检测。太赫兹频率电场的电光探测利用大块电光晶体 ...
格表包含有关色散参数的信息。它们以柯西系数的形式列出——这3个系数可以确定材料在不同光波长下的折射率(R.I.)。可以创建新的柯西材料并指定特定光刻胶的柯西系数如果光致抗蚀剂的柯西系数不可用–使用类似光致抗蚀剂的柯西系数作为起点。步骤 2:创建胶片堆栈Filmstack 代表物理样本的模型- 它定义了基材和材料层。如果3000nm 的光刻胶沉积在Si 晶圆上,薄膜叠层将是Si 衬底/3000nm PR。这里PR 将是步骤1 中定义的光刻胶材料。步骤 3. 进行测量测量实际上是一个两步过程:数据采集和数据分析。它们由 TFCompanion 软件透明地处理。在第1次测量期间,可能会也可能不会得到 ...
有频率选择和色散控制的被动晶体器件,它是通过在晶体内部沿光传播方向实现非等周期性的折射率调制,根据布拉格条件,在不同位置处对应不同频率波长的激光,通过产生不同的光程差实现对色散的精确控制。CBG产品由于这种特性,多用于超快激光的脉冲展宽和压缩应用中。啁啾体布拉格光栅(CBG)产品基于PTR晶体材料制作,物理性能稳定且能提供较大的色散能力(~400ps^2@单通,~800ps^2@双通 ),较高的衍射效率(>90%),且适用于高功率激光。在H.Levin 2022年发表的文章《Dispersive optical systems for scalable Raman driving of ...
光学隔离器,色散工程紧凑和高Q谐振器,可扩展量子光子学,甚至芯片上的激光驱动粒子加速器。6.未来高速度自由空间光通信的等离子调制器(Plasmonic Modulators for Future Highest-Speed Free Space Optical Communications),L. Kulmer, et al.(OFC, 2023)摘要:等离子体调制器已被评估为在53公里踹流的自由空间光链路中高达200Gbaud的运行。它们被证明能够承受空间辐射和大温度范围,使其成为空间应用的理想选择。7.片上系统光子集成电路在硅光子学和等离子体的作用(System-on-Chip Photo ...
过使用第二个色散元件,棱镜或低分辨率光栅来解决的,它垂直于中阶梯光栅,并在探测器上扇形展开,因此它们位于彼此上方的迹线中。这有效地将源光谱转换为探测器上的连续光谱迹线堆栈,每个迹线覆盖的光谱范围很短,分辨率很高。这使得在一次拍摄中记录宽带高分辨率光谱成为可能,这就是为什么阶梯光栅长期以来一直是天文观测中shou选的工具。需要专门的分析软件来解开堆叠的光谱序列,并将它们合并成一个覆盖全范围的校准光谱。这需要精确的波长校准——将每个像素的位置与唯yi的波长相匹配,并仔细的通量校准以消除由光学器件和探测器的波长相关效率引起的每个阶的强度变化,特别是光栅在每个阶上印下的强度剖面(所谓的火焰剖面)。下面 ...
A材料的光学色散(柯西系数)由制造商提供。用MProbeVis测量涂层的厚度。图3 PMMA的测量:测量数据与模型。厚度:143.2nm三、硅上光刻胶利用MProbeMSPVis系统(使用20μm的测点)测量PR。PR的折射率尚不清楚。PR的光学常数用CauchyK近似表示----n和k随厚度一起测量图4 硅片上的光刻胶点(15×15um)图5测量结果:模型与实测数据的拟合。厚度:3341nm图6 测量光刻胶的n和k四、蓝宝石晶圆上的光刻胶。为了准确地确定PR的R.I.离散度,我们首先使用直接曲线拟合并测量以下参数:1.PR的厚度2.PR的R.I.色散。直接测量的参数是柯西系数,因为色散是用柯 ...
射率(材料的色散)已知,使用FFT厚膜算法很容易测量它们的厚度。这种方法不需要精确的校准或详细的膜堆模型,在生产环境中使用方便。然而,如果不知道正确的折射率,厚度读数也会不准确。样品测量MProbe 20 Vis在400-1000nm波长范围内测量包覆和未包覆的样品。图1 带有聚对二甲苯涂层的Al样品为了快速估计样本的厚度,我们使用了基于厚膜FFT的算法图2 聚对二甲苯厚层在拼接铝上的反射光谱。图3 采用厚膜算法测量(12.7 μm)的结果-假设对二甲苯X折射率由于我们不知道我们使用的折射率是否正确,我们需要验证模型与测量数据的拟合。这将使我们能够更准确地确定折射率和厚度。为了测量涂层,我们首 ...
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