位解调、空气折射率补偿等多方面方法和技术的综合应用，国内外的研究现状根据测距的基本原理可分为飞行时间法和干涉法两大类。飞行时间法主要根据根据时间间隔的测量原理，通过直接或间接的方法测量发射脉冲与接受脉冲的时间间隔，进而计算目标距离。干涉法量主要包括多波长干涉法、色散干涉法、双光梳干涉法与频率扫描干涉法。多波长干涉法测量距离的原理基于不同波长光在光程差发生变化时引起的干涉现象。这个方法利用了不同波长光的相位变化关系，通过观察干涉条纹的移动来确定测量目标的距离。这种方法在测距应用中具有高精度和灵敏度，尤其在需要非接触和高精度的测量场景下。通过利用不同波长光的特性，多波长干涉法可以实现对目标距离的精 ...
n1是空气的折射率(1.00)，n2是薄膜的折射率，n3是衬底折射率，是光在界面1的入射角，、如图1-1所示，分别是在所测薄膜、基底中的折射角。在图1-1的模型中，经过多次反射折射后，由多光干涉的公式可得zui终反射系数为：其中，d是膜厚，λ是真空中光的波长，2δ是相邻两束反射光的相位差。振幅、相位是描述光波偏振状态的两个参数，在椭偏仪中用Ψ、△来表示。其取值范围是：0≤Ψ≤π/2，0≤△<2π。总反射系数比值定义为ρ，ρ与(Ψ，△)、(Rp，Rs)关系式如下：其中，tgΨ为反射前后P、S光两分量的振幅衰减比，△=δp−δs为P、S两分量相位变化差。可以清楚地看到Ψ、△直接给出反射前和反 ...
为活性介质的折射率；m为一个较大的正整数。连续模式被不同的常数分开，它是FP标准具的自由光谱范围:两个相邻位模式间相近的距离△λ可以表示为:(3)激光器的应用大多数光学计量技术需要激光器输出在可见光范围内，如He-Ne激光器、He-Cd激光器(441.6μm)、可调谐染料激光器、Ti:蓝宝石和翡翠玉(两者都在远红外范围)激光器。干涉测量技术和全息术利用脉冲激光用于解决与记录系统的稳定性相关的问题。光学遥感和通信应用包含纤维主要利用Nd:YAG激光器。zui大能量的CO2激光器广泛应用于工业应用，如材料加工(激光切割，焊接，钻孔，等等),目前以上几乎所有的激光器都应用于医疗过程。了解更多详情，请 ...
射结构，在高折射率的红外透明母棱镜上沉积一层金属薄膜作为工作电极。由于红外光束从电极背面(通过棱镜)聚焦在界面上，然后检测到反射辐射，因此溶液层的厚度对入射、出射光的影响可避免，故而液层的厚度将不再受到限制。然而，这种内部反射结构的电极材料仅限于红外窗口棱镜上的一个薄膜(小于100nm)，仅限于溅射或化学沉积的少数金属(Au、Pt、Pd等)。石英晶振仪是一种非常灵敏的质量天平，可以测量单位面积内质量的毫微克水平变化。石英是一种压电材料，通常通过金属电极施加适当的电压，可以使其以规定的频率振荡。在电极表面添加或去除少量的质量可以影响振荡的频率。这种频率的变化可以实时监测，以获得电极表面发生的分子 ...
时，光学常数折射率及消光系数有如下关系式：由朗伯定律与光强度的定义得吸收系数β与消光系数k的关系为：又由比尔定律知，当溶液浓度足够小以至于分子间相互作用能被忽略时，溶液吸收系数β与溶液的浓度C成正比，即β=αC，α是与浓度无关由吸收物质分子的特性决定的常数。因此可以得到溶液浓度与其折射率之间的关系式为：由以上推导可知光学常数n、k值和溶液浓度之间的关系如式(1-11)所示，而椭偏仪测量得到的参数ψ和Δ是光学常数n、k的函数，这意味着溶液直接影响着测试结果，不同浓度溶液带来的影响不同。所以后续研究过程中溶液以及溶液浓度对测试结果的影响都是具有挑战性的。4.2固液界面椭偏仪在位监测薄膜沉积过程中涉 ...
的物镜系统是折射率呈梯度变化的自聚焦透镜GRINlens。由此可以初步得出微型化傅里叶光学系统的主要光学结构如图7所示，这也是光场传播和成像的主要路径。图74.光路设计傅里叶光场显微镜是在改进后的高分辨率光场显微镜的基础上，在透镜和微透镜阵列之间插入一个新的透镜，该透镜能将光场从时域转换成频域，起到傅里叶变换的作用。为了实现微型化，物镜系统采用GRINlens实现，具体的光路原理图如图8所示。图85.机械系统整体结构设计本设计的光学外壳是基于傅里叶光场显微镜的微型化而产生的。随着微型化集成技术的不断发展，越来越多的学者团队开始研究将光场显微技术与微型化技术进行结合，也由此设计出了适用于不同光路 ...
、封装材料的折射率分布等参数。利用波前分析仪可以检测封装过程中产生的各种缺陷，如焊点空洞、引线偏移、芯片倾斜等。通过分析波前的相位和振幅变化，可以定位缺陷的位置和大小。波前分析仪可以评估封装后的芯片质量，如焊点的可靠性、引线的连接强度等。通过测量波前的散射和反射情况，可以判断封装质量的优劣。过程监控：在封装过程中，波前分析仪可以实时监测波前的变化，从而及时发现封装过程中的异常情况。这有助于提高封装的成功率和生产效率。波前分析仪在芯片封装检测中具有重要的应用价值，可以帮助工程师提高封装质量、降低生产成本和提高生产效率。随着封装技术的不断发展，波前分析仪的应用领域还将不断拓展。4）光学元件检测：可 ...
会同时影响到折射率n和消光系数k，在图4-6(b，d)吸收系数中观察到在长波范围内(500-800nm)的波包变化但是在图4-6(a，c)中的折射率系数n却没有监测到，这意味着这个吸收系数的波包变化可能是沉积材料的厚度导致的。对于沉积时间为360s时，相对于其它沉积时间n值和k值都有很大的变化，这可能是360s时的物相较为特殊。由于物相包括新物质或者是结构，如颗粒尺寸，所以这可能是由于在360s时沉积的CU2O成分或者是此时得到的颗粒尺寸或者结构有所不同，需要进一步验证。图4-6不同沉积时间得到的椭偏数据图(a，c)n，(b，d)k了解更多椭偏仪详情，请访问上海昊量光电的官方网页：https: ...
长变化图，与折射率n的趋势相似。随着时间的变化，值发生变化。当沉积时间为180s的时候，在500-800nm长波范围，其值从衬底的-20增加到-0.5，这也意味着新的物质沉积，导致衬底的信息减少。在沉积时间增加到360s和540s时，整体上值比180s减小了3左右，在350nm附近出现一个较明显的波包，同时在550nm附近出现一个波包。当沉积时间增加到720s之后，的值恢复到沉积180s附近，但是在500-800nm波段稍小，且在500nm附近出现波包。沉积时间为900s时，值的变化和720s一致，但是出现的波包位置大概在530nm附近。当时间为1080s时，在300-500nm波段其值和72 ...
-10(a)折射率n值来看，没有沉积之前即0s时，n值从300nm-800nm不断减小，在300nm-500nm波段平缓，500nm处骤减，600nm-800nm达到zui小值且有波动。与0s相比，不同沉积时间在300nm-500nm波段每个沉积时间的变化趋势一致，数值上180szui大，360szui小，其余介于二者之间；都在330nm和410nm附近存在波包。在500nm-800nm波段，变化趋势比较相似，数值上比0s的大，但是存在波动，特别是180s在600nm附近存在骤减。从图4-10(b)消光系数k值来看，0s时k值从300nm-800nm不断增加，在300nm-500nm波段平缓， ...
或 投递简历至: hr@auniontech.com
