DMD无掩模光刻是光学无掩模光刻技术的一种，该技术使用数字DMD代替传统的掩模，借助于DMD对常规掩膜予以取代而展开光刻
成像，借助DMD对光源展开反射式调制，把涉及的虚拟数字掩膜移至硅晶圆基片，进而进行曝光。
何为DMD?
DMD即“Digital Micromirror Device”数字微镜器件,是一种基于MEMS技术的微反射镜阵列单元，单元数量可达百万量级，是一种
电子输入、光学输出的微机电系统 (MEMS)，开发人员可借助该系统执行高速、高效及可靠的空间光调制。
图1：DMD单个工作单元图示
1、何为无掩模光刻？
无掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技术。在传统光刻过程中，需要采用光学照射掩模版的方式将图案转移到掩模版上；而在无掩模
光刻中，对目标图案的转印不需要掩模版，而是通过电子束或光学的方式直接在基片上制作出所需要的图案，这种方式避免了传统方式
制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺点。
2、何为DMD无掩模光刻？
DMD无掩模光刻是光学无掩模光刻技术的一种，该技术使用数字DMD代替传统的掩模，借助于DMD对常规掩膜予以取代而展开光刻
成像，借助DMD对光源展开反射式调制，把涉及的虚拟数字掩膜移至硅晶圆基片，进而进行曝光。
DMD无掩模光刻系统本质上是一种高精度加工平台，如下图所示，主要包括投影光源部分、DMD光调制部分、投影物镜和光可调平台
部分。
图2：法国Microlight3D公司DMD无掩模光刻系统结构图
3、DMD无掩模光刻相比传统光刻有什么优点？
借助DMD无掩模光刻成像的效率是传统光刻无法比拟的，其光刻成像过程完全受计算机控制，因而便于更改数字虚拟掩膜，并且DMD
的成本较低，可以循环使用，极大的简化了传统光刻的流程，也大大降低了光刻加工的成本。
4、Smartprint UV无掩模光刻系统有什么优势？
Smartprint UV无掩模光刻系统源自法国Smart Force Technologies (SFT)公司，广泛应用在微尺度2D打印的各个领域。SFT公司于
2019年被法国高分辨率2D&3D打印系统制造商Microlight3D公司收购。
图3：Smartprint UV无掩模光刻系统外观，尺寸52×52×69mm3
SmartPrint UV是基于DMD投影技术，与广泛的抗蚀剂和基材兼容。
SmartPrint UV可以在微米分辨率下产生任何二维形状，而不需要硬掩模。
SmartPrint UV适用于任何需要表面微观图案的应用领域，如微流控、生物技术和微电子。
特点汇总：
分辨率可至1.5um
兼容i线、h线和g线光刻胶
兼容各种基材（石英、玻璃、金属、塑料）
可更换物镜（1×、2.5×、5×、10×）-可调视场和分辨率
兼容5*5英寸样品
台式超紧凑设计
核心规格：
| 标准版本 | 高级版本 | |
| 光源 | 曝光波长：385nm；校准波长：590nm | |
| 最小特征尺寸 | 1.5um | |
| 校准精度（1cm2打印区域） | 2um | 1um |
| 最大曝光范围 | 70×70mm2 | 110×110mm2 |
| 基材尺寸 | 可达4英寸 | 可达5*5英寸 |
| 直写速度 | 77mm2/min | 220mm2/min |
| 系统尺寸 | 52×52×69mm2 | |
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