双光子聚合激光直写3D纳米光刻机
MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件，MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽，为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性，可以满足您的个性需求。
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性：
较高的直写精度和分辨率(＜200nm)（已有客户使用此设备实现低至67nm分辨率的结构）
直写速度快
兼容任何CAD模型和文件
兼容广泛的聚合物，光刻胶，生物相容性材料，生物材料
紧凑的设计
适用于层流架
适用于无菌、无尘室以及工业环境
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机核心优势：
新的TPP切片工具
复杂的3D结构下高直写速度
三维微零件无形状限制
适用于微部件、微流体、超材料、细胞培养、微机器人、微力学、组织工程、表面结构或任何你可能拥有的微制造理念的技术。
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机规格指标：
X,Y轴刻写分辨率 | 0.2-3µm可调，zui小≤50nm |
Z轴刻写分辨率 | 0.6-10µm可调 |
X,Y,Z轴刻写范围 | 100-300µm |
| 拼接复制范围(X,Y) | 75×25 mm²（标准版）；100×75 mm²（升级版） |
| 拼接精度 | 100nm |
zui大样品高度(Z) | 20mm |
表面粗糙度 | 20nm |
刻写扫描速度 | XY轴：高分辨率模式下100µm/s , 低分辨率模式下1.5mm/s Z轴：高分辨率模式下300µm/s , 低分辨率模式下5mm/s 10m/s除以物镜放大倍率（例：100X物镜下扫描速度为100mm/s） |
激光波长 | 532nm（517nm, 780nm, 1064nm激光器可选） |
外观尺寸 | L x W x H = 50cm x 50cm x 90cm |
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机适用材料：
我们为我们的双光子聚合激光直写3D纳米光刻机提供了10种zhuanli光刻胶，这些树脂的各种性能允许您探索许多应用领域。
我们的系统可与各种商业上可用的光刻胶兼容，如Ormocomp, SU8, FormLabs树脂，NOA-line树脂，甚至水凝胶或蛋白质等。这些光刻胶可能是生物兼容的，甚至已被认证实现微型医疗设备。如果您想使用定制的、自制的聚合物，我们也可以帮助您调整系统以适应您的工艺。
他们在使用microFAB-3D：
关于昊量光电：
上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。
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