小点薄膜厚度测量通常使用低数值孔径 (NA) 的显微镜物镜来完成。大多数标准显微镜都使用高数值孔径物镜,即更大的光锥角照射样品。高数值孔径物镜具有许多优点:更高的分辨率、更好的光收集等。但当目标是测量薄膜厚度时,它们有一些显着的缺点。
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小点厚度测量
高数值孔径目标问题
严重的问题是用于确定薄膜厚度的干涉信号的对比度降低。在高数值孔径物镜中,光线在胶片中以不同角度折射(见图1),因此光线在胶片材料中的路径长度不同。这意味着它们具有不同的相位差。一旦不同的光线组合在一起并且相位叠加在探测器上,相长干涉峰/谷和相消干涉峰/谷之间的对比度就会减弱。这种影响的严重程度取决于具体的胶片叠层和数值孔径。但是,一般来说,效果随着厚度的增加而增加。
图 1 大数值孔径 (NA) 的小光斑测量
NA 如何影响厚度测量
在硅氧化物测量示例中很容易看出效果。 200nm氧化物的UVVis反射光谱(200-1000nm)的模拟如图 2 所示。它显示光谱随着 NA 的增加而逐渐退化。但变化很小并且很容易纠正。然而,对 2000nm 氧化物的相同模拟(图 3)显示 NA 的影响更为显着。
图2 大数值孔径对200nm氧化物测量反射光谱的影响。线条代表:0、±30deg(NA=0.5)、±50deg(NA=0.76)、±70deg(NA=94) 和±90deg(NA=1)
图3 大数值孔径对2000nm氧化物测量反射光谱的影响。线条代表:0、±30deg(NA=0.5)、±50deg(NA=0.76)、±70deg(NA=94)和±90deg(NA=1)
解决办法
TFCompanion 软件具有校正高 NA 效应的选项(图 4)。然而,如果干涉信号已经由于其他伪影(散射、厚度不均匀性等)而减弱,NA 效应会使干涉条纹几乎消失,在这种情况 下,软件校正无济于事。需要根据应用要求评估物镜的使用。 如果可能的话,使用低数值孔径物镜总是更好。实际上,在所有应用中,低 NA(理想情况下 NA < 0.5)对测量光谱的影响非常小。
图 4 校正 TFCompanion 中的 NA 影响。 TFCompanion 有一个选项可以在“高ji”选项卡 (主屏幕)中设置测量的 NA–这将包括曲线拟合期间计算中的 NA 校正(通常不需要 FFT 校正)
MProbe 40 MSP 系统使用 NA<0.55 的长工作距离 物镜。这非常大限度地减少了几乎所有胶片叠层的测量信号的衰减。此外,长工作距离使得导航到测量位置更加舒适,即使不切换到低放大倍率物镜也是如此。
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